离子束抛光检测摘要:离子束抛光检测是评估高精度表面处理质量的关键环节,主要针对材料表面粗糙度、面形精度及亚表层损伤进行量化分析。核心检测指标包括纳米级形貌特征、元素成分稳定性及热力学性能变化,需结合非接触式光学测量与显微分析技术完成数据采集与验证,确保其在精密光学、半导体等领域的应用可靠性。
参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
1.表面粗糙度:Ra≤0.5nm(扫描区域1mm1mm),Sa≤0.8nm(三维参数)
2.面形精度:PV值≤λ/20@632.8nm(RMS≤λ/100)
3.材料去除率:0.1-5μm/h(离子能量5-30keV)
4.亚表层损伤深度:≤50nm(透射电镜观测)
5.元素污染度:表面杂质含量≤100ppm(EDS能谱分析)
1.光学玻璃:包括熔融石英、BK7玻璃制成的透镜与棱镜
2.金属合金:钛合金/铝合金航空部件与医疗器械
3.半导体材料:硅/碳化硅晶圆及红外窗口片
4.陶瓷材料:氧化铝/氮化硅精密轴承与喷嘴
5.聚合物材料:PMMA微流控芯片与仿生器件
1.ISO10110-8:2020光学元件表面粗糙度非接触测量规范
2.ASTME384-22材料显微硬度测试标准(载荷10-500mN)
3.GB/T16534-2009工程陶瓷表面缺陷检验方法
4.ISO14952-3:2019表面清洁度评估的XPS测试规程
5.GB/T32281-2015半导体晶片几何尺寸测量指南
1.ZygoNewView9000:三维表面形貌仪(垂直分辨率0.1nm)
2.VeecoNT9800:白光干涉粗糙度测量系统
3.FEIHeliosG4UX:聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)
4.BrukerContourGT-X3:激光共聚焦显微镜
5.ShimadzuHMV-G21DT:显微硬度计(最大载荷2kgf)
6.ThermoScientificK-Alpha+:X射线光电子能谱仪
7.OlympusLEXTOLS5000:激光显微系统(12000放大倍率)
8.Agilent5500:原子力显微镜(接触/非接触双模式)
9.ZeissAxioImager.M2m:金相显微镜(微分干涉对比功能)
10.HitachiSU8200系列:冷场发射扫描电镜(分辨率0.8nm@15kV)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
中析离子束抛光检测 - 由于篇幅有限,仅展示部分项目,如需咨询详细检测项目,请咨询在线工程师
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