除银法检测摘要:检测项目1.银含量测定:采用ICP-OES/MS法测定0.01%-99.9%浓度范围2.杂质元素分析:包括Cu、Pb、Cd等12种金属杂质(检出限0.001ppm)3.镀层厚度测量:XRF法检测0.1-50μm镀银层厚度(精度0.05μm)4.表面形貌观察:SEM-EDS分析表面孔隙率(分辨率3nm)5.结合强度测试:划痕法评估镀层附着力(载荷0-50N可调)检测范围1.电子接插件与半导体封装材料2.贵金属合金(Ag-Cu-Zn系焊料)3.多层陶瓷电容器(MLCC)端电极4.工业催化剂(Ag/Al₂O₃体
参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
1.银含量测定:采用ICP-OES/MS法测定0.01%-99.9%浓度范围
2.杂质元素分析:包括Cu、Pb、Cd等12种金属杂质(检出限0.001ppm)
3.镀层厚度测量:XRF法检测0.1-50μm镀银层厚度(精度0.05μm)
4.表面形貌观察:SEM-EDS分析表面孔隙率(分辨率3nm)
5.结合强度测试:划痕法评估镀层附着力(载荷0-50N可调)
1.电子接插件与半导体封装材料
2.贵金属合金(Ag-Cu-Zn系焊料)
3.多层陶瓷电容器(MLCC)端电极
4.工业催化剂(Ag/Al₂O₃体系)
5.含银废料回收物(电子废弃物/感光材料)
1.ASTME507-2021《银矿石化学分析方法》
2.ISO11490:2020《钎料合金中银含量测定》
3.GB/T15072.8-2023《贵金属合金化学分析方法》
4.ASTMB748-2022《X射线荧光法测量金属镀层厚度》
5.GB/T5270-2021《金属基体上覆盖层附着强度试验》
1.PerkinElmerOptima8300ICP-OES:多元素同步分析(波长范围165-900nm)
2.ThermoScientificNitonXL5XRF:无损镀层厚度测量(可测元素Ti-U)
3.ZEISSGeminiSEM500场发射电镜:纳米级表面形貌表征(加速电压0.02-30kV)
4.CSMRevetest划痕测试仪:动态载荷附着力评估(位移分辨率10nm)
5.Metrohm888Titrando电位滴定仪:高精度容量分析法(分辨率0.1μL)
6.ShimadzuEDX-7000能量色散光谱仪:快速元素面分布分析(Be窗探测器)
7.MettlerToledoXP205分析天平:微量样品称量(精度0.01mg)
8.BrukerD8ADVANCEXRD:晶体结构分析(Cu靶Kα辐射源)
9.Agilent7900ICP-MS:超痕量元素检测(检出限ppt级)
10.MitutoyoSJ-410轮廓仪:三维表面粗糙度测量(Z轴分辨率0.01μm)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
中析除银法检测 - 由于篇幅有限,仅展示部分项目,如需咨询详细检测项目,请咨询在线工程师
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