甲基锗检测摘要:检测项目1.甲基锗纯度测定:采用气相色谱法(GC)测定主成分含量≥99.99%2.有机杂质分析:通过GC-MS联用技术检测烷基硅氧烷类杂质≤50ppm3.无机金属残留:ICP-OES法测定铁(Fe)、铜(Cu)、镍(Ni)等重金属总量≤100ppb4.水分含量测试:卡尔费休库仑法控制H₂O含量≤200ppm5.热稳定性评估:TGA热重分析法测定分解温度≥280℃6.晶体结构表征:XRD衍射分析半峰宽(FWHM)≤0.157.表面形貌观测:SEM扫描电镜观察颗粒粒径分布1-5μm检测范围1.半导体级三甲基锗
参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
1.甲基锗纯度测定:采用气相色谱法(GC)测定主成分含量≥99.99%
2.有机杂质分析:通过GC-MS联用技术检测烷基硅氧烷类杂质≤50ppm
3.无机金属残留:ICP-OES法测定铁(Fe)、铜(Cu)、镍(Ni)等重金属总量≤100ppb
4.水分含量测试:卡尔费休库仑法控制H₂O含量≤200ppm
5.热稳定性评估:TGA热重分析法测定分解温度≥280℃
6.晶体结构表征:XRD衍射分析半峰宽(FWHM)≤0.15
7.表面形貌观测:SEM扫描电镜观察颗粒粒径分布1-5μm
1.半导体级三甲基锗(Ge(CH₃)₃)原料
2.医药中间体二甲基锗氧烷聚合物
3.光学镀膜用四甲基锗蒸气源
4.催化剂前驱体甲基锗氯化物
5.高分子材料改性剂含锗有机硅化合物
6.纳米材料合成用锗基MOF前体
7.特种润滑剂中甲基锗添加剂
1.ASTME2941-21《有机金属化合物纯度测定标准规程》
2.ISO17052:2015《金属有机物中痕量元素分析通则》
3.GB/T11064.1-2020《锂化学分析方法第1部分:水分的测定》
4.JISK0119:2022《气相色谱分析通则》
5.GB/T33324-2016《有机硅产品中氯离子含量测定》
6.ISO11358-1:2022《塑料热重分析法(TGA)》
7.ASTMB822-20《金属粉末粒度分布标准测试方法》
1.Agilent7890B气相色谱仪:配备FID检测器,分辨率0.1ppm
2.ThermoScientificiCAPRQICP-MS:检出限达ppt级
3.METTLERTOLEDOC30S卡尔费休水分仪:测量精度1μg
4.ShimadzuXRD-7000X射线衍射仪:角度重复性0.0001
5.PerkinElmerSTA8000同步热分析仪:温度范围RT~1500℃
6.JEOLJSM-7900F场发射扫描电镜:分辨率0.8nm@15kV
7.WatersXevoG2-XSQTOF质谱仪:质量精度<1ppm
8.BrukerAVANCEIIIHD核磁共振波谱仪:频率600MHz
9.MalvernMastersizer3000激光粒度仪:测量范围0.01-3500μm
10.HORIBALabRAMHREvolution拉曼光谱仪:空间分辨率250nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
中析甲基锗检测 - 由于篇幅有限,仅展示部分项目,如需咨询详细检测项目,请咨询在线工程师