二氯一氧化铪检测

参考周期：常规试验7-15工作日，加急试验5个工作日。

注意：因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

检测项目

1. 主成分纯度：HfCl₂O含量≥99.5%（质量分数），采用非挥发性残留物法测定

2. 氯元素含量：Cl⁻离子占比误差≤0.3%，电位滴定法控制精度±0.05%

3. 氧元素分布：O/Hf摩尔比1.8-2.2区间验证，XPS表面分析深度5nm

4. 晶体结构参数：XRD分析晶面间距d值偏差≤0.005Å

5. 热分解特性：TGA测试失重率≤1.5%（200-400℃温区）

检测范围

1. CVD工艺用高纯前驱体材料：半导体级HfCl₂O粉末及溶液

2. 催化反应体系：负载型纳米催化剂载体材料

3. 先进陶瓷原料：锆铪系复合氧化物陶瓷前驱体

4. 光学镀膜材料：真空蒸镀用HfCl₂O颗粒

5. 特种化学试剂：电子级蚀刻液配方组分

检测方法

1. GB/T 23945-2009《无机化工产品中杂质元素的测定》规范金属杂质检测

2. ASTM E256-2019《氯含量的微库仑测定标准方法》控制卤素含量

3. ISO 14707:2015《表面化学分析-辉光放电发射光谱法》用于深度剖析

4. GB/T 17473.6-2008《电子工业用贵金属浆料测试方法》指导热分析

5. JIS K0153:2018《X射线衍射分析方法通则》规范晶体结构测试

检测设备

1. Thermo Scientific ARL PERFORM'X X射线荧光光谱仪（XRF）：元素定量分析精度±0.01%

2. PerkinElmer Optima 8300电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）：检出限达ppb级

3. Netzsch STA 449 F5同步热分析仪：TGA-DSC联用温度范围RT-1500℃

4. Bruker D8 ADVANCE X射线衍射仪（XRD）：配备LynxEye阵列探测器

5. Metrohm 905 Titrando电位滴定仪：分辨率0.1μL的自动滴定系统

6. Shimadzu EDX-8000能量色散X射线光谱仪：Be窗探测器元素范围B-U

7. Agilent 7900 ICP-MS质谱仪：同位素比值测定RSD＜0.05%

8. Malvern Mastersizer 3000激光粒度仪：测量范围0.01-3500μm

9. JEOL JSM-7900F场发射扫描电镜（FE-SEM）：分辨率1.0nm@15kV

10. Mettler Toledo XPR6U超微量天平：称量精度0.1μg/210g量程

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

中析仪器 资质