表观聚焦面检测

参考周期：常规试验7-15工作日，加急试验5个工作日。

注意：因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

检测项目

1.表面粗糙度分析：测量Ra值（0.01-10μm范围），Rz最大高度偏差≤5%

2.曲率半径精度：检测半径公差0.05mm（Φ5-200mm量程）

3.局部面形误差：PV值≤λ/4（λ=632.8nm），RMS值≤λ/20

4.散射光分布：测量散射角0.1-85，光强分布均匀性≥95%

5.微缺陷密度：统计直径≥0.5μm的划痕/凹坑（密度≤3个/cm）

检测范围

1.光学镜头：包括球面/非球面透镜、菲涅尔透镜等

2.半导体晶圆：硅片、砷化镓等基材表面

3.精密模具：注塑模具型腔表面（HRC50以上硬度材料）

4.MEMS器件：微机电系统运动部件接触面

5.镀膜基板：ITO导电玻璃、AR增透膜基材等

检测方法

1.白光干涉法：依据ISO25178-604进行三维形貌重建

2.激光共聚焦法：按GB/T29557-2013执行亚微米级缺陷扫描

3.相位偏移干涉术：采用ASTMF529-16标准计算波前畸变

4.散射光度法：参照ISO13696测量双向反射分布函数

5.接触式轮廓术：执行GB/T6062-2009获取二维轮廓数据

检测设备

1.ZygoNewView9000：3D表面轮廓仪（垂直分辨率0.1nm）

2.MitutoyoSurftestSJ-410：接触式粗糙度仪（行程800mm）

3.BrukerContourGT-X8：白光干涉显微镜（100x物镜）

4.OlympusLEXTOLS5000：激光共聚焦显微镜（12000x放大）

5.TaylorHobsonPGIOptics：非接触式面形测量仪（Φ300mm量程）

6.KeyenceVR-6000：三维扫描测量系统（重复精度0.02μm）

7.JenoptikWaveline：数字波面干涉仪（λ/100精度）

8.NikonEclipseL200N：金相显微镜（微分干涉对比功能）

9.OptofluxFRTMicroProf：晶圆表面分析系统（300mm晶圆兼容）

10.PolytecMSA-600：微系统分析仪（振动补偿功能

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

中析仪器 资质